工作原理
光氧催化净化处理设备的核心是光催化反应过程，其基本原理如下:
1.光激发:半导体材料在特定波长的紫外光照射下，吸收光子能量,激发电子从价带跃迁到导带，形成电子-空穴对。
2.电子-空穴分离:在电场作用下，电子和空穴分别迁移到半导体材料的表面。
3.氧化还原反应:电子与氧气结合形成超氧自由基(02^-)，进一步分解为臭氧(03)。同时，空穴与水分子(H20)反应生成羟基自由基(OH)。
4.污染物降解:臭氧和羟基自由基具有很强的氧化性，能够与空气中的有机物、恶臭气体等发生反应，将其分解为无害的C02和H20。